该涂层可能使用 LPPS-Hybrid 系统填补传统热喷涂工艺和薄膜 (PVD、CVD) 工艺之间的缺口。

下列元件组成本系统：

• 垂直定向的真空室
• 长等离子体射流进行大面积喷涂
• 使用比传统 LPPS 大幅度降低的工作压力

LPPS 混合系统可以生成三种不同体制的涂层：

采用高枪焓蒸发特定类型的原材料，PS-PVD（等离子喷涂-PVD）可生产厚的、柱状结构 YSZ 涂层（100 至 300μ m）。

以较高的沉积率，通过使用气态前体为原材料，PS-CVD（等离子喷涂-CVD）使用改进的传统热喷涂设备，在低于 0.5 毫巴的氛围下，生成类 CVD 涂层（<1 至 10 μm）。

PS-TF（等离子喷涂薄膜）使用传统的热喷涂方法，但在较高的速度和热焓下，用液体薄膜生成薄而致密的喷涂层。